掩膜版(Photomask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制作中光刻工艺所运用的图形母版，由不通明的遮光薄膜在通明基板上构成掩膜图形，并经过曝光将图形转印到产品基板上。按使用范畴来看，掩膜版可分为半导体芯片、平板显现、电路板和触控等类型。其间平板显现掩膜版是掩膜版使用第二大下流范畴。2023年全球平板显现掩膜版职业商场规模约65亿元，近五年职业复合增速为3.78%。开始预算，2024年全球平板显现掩膜版职业商场规模进一步增加至约70亿元。
从全球平板显现掩膜版区域开展状况来看，2018年起我国大陆逾越韩国成为全世界第一大平板显现掩膜版商场。到2023年，我国大陆商场占全球平板显现掩膜版商场规模的55%以上。
当时全球平板显现掩膜版商场集中度比较来说较高，首要参加企业有Photronics、SKE、HOYA、LG-IT和我国的清溢光电等。依据计算2023年全球平板显现掩膜版企业出售金额排名Photronics和SKE占有全球平板显现掩膜版商场占有率最大。
更多本职业研讨剖析详见前瞻工业研讨院《全球及我国掩膜版（光刻掩膜版）职业开展前途猜测与出资战略规划剖析陈述》
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